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當前位置:首頁產品中心同位素分析實驗耗材及設備清洗器ZH-GQXL-4L同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L

同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L

產品簡介

同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L
小瓶清洗系統是清洗實驗室器皿安全、有效的方法。用于消除小型PFA溶樣罐和燒杯上的樣品殘留。

產品型號:ZH-GQXL-4L
更新時間:2024-04-16
廠商性質:生產廠家
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    同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L

          PFA清洗罐

小瓶清洗系統是清洗實驗室器皿安全、有效的方法。用于消除小型PFA溶樣罐和燒杯上的樣品殘留。

該清洗系統由高純PFA材質制成,專為熱浸泡清洗設計,與傳統玻璃燒杯相比,更結實耐用。該小瓶清洗系統為全密閉系統,可以消除空氣引入的污染,同時避免酸揮發引起的環境污染。可拆卸的倒酸口,可安全倒出酸液,便于取出實驗器皿。

瓶清洗系統搭配實驗室電熱板使用,可清洗各種實驗室器皿。清洗液可用皂液或無機酸。所有接觸酸的部件均由高純PFA制成。將待清洗的器皿和清洗液放入容量為4L的系統中,放置電熱板上加熱。清洗桶的蓋子上帶有放氣閥,避免加熱時桶內產生高壓。該系統可保持亞沸狀態連續加熱數天,而不引起酸的揮發,無需實驗人員監控.節省人力成本,同時節省酸的消耗。可拆卸的倒酸口,可安全倒出酸液,便于取出實驗器皿。小瓶清洗系統可耐受所有的無機酸,可在稀釋酸的沸點或近沸點使用。

同位素溶樣罐清洗裝置樣品殘留消除罐4L

使用注意事項:

1.小瓶清洗系統的加熱溫度不能高于450℉(230℃)。超過此溫度,將對清洗系統帶來不可逆的損壞。

2.小瓶清洗系統非耐壓容器,在加熱時須保證放氣孔不密閉。必須在通風櫥內加熱。小瓶清洗系統不能干燒,否則高溫會引起不可逆的損壞。

 

 

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